「作为功率模块的上游，部分设备可以共用，『高温粉末反应炉」和『PVT晶体生长炉」将是项目攻克的核心.：：」
穿上了无尘服，男女更衣间里各自走出，三人再度汇合。
一连串消毒出尘工作，对于从未在「机核半导体」工作过的周墨有些陌生，不过有样学样倒也没出差错。
很快，他就看到了这处实验室的真正内容。
一台组装进度一半左右的大型设备。
翟达介绍道：「高温反应炉在另外的地方，那边主要是葛巧巧负责，这台是PVT..：」
「PVT技术应用很广泛，历史悠久，不过针对不同物质需要一些调整，以前我们还得买个原型机回来，这次有基础了可以从零开始..：」
简单比喻一下衬底生成，就是将纯度大于99.9995%的碳粉和硅粉混合，在20000°下化学反应生成「碳化硅颗粒」。（依托高温反应炉）
然后再换个设备，将「碳化硅颗粒」加热至2300C°使其气化升华，通过高低温分区，使其均匀的凝结在指定位置上，物理原理和「冷凝水」类似，只不过是固体。
这一过程就叫「物理气相传输法（PVT）」，速度很慢，一天只能成长3mm。
PVT得到的是一块圆柱形的「晶锭」，要用金刚石线切割成1毫米以下的薄片，再反复打磨、打磨再打磨...就是他们平时用的「衬底」了。
之所以慢成这个逼样子，是因为碳化硅在常规条件下没有液态，只能用升华气态再凝固的笨办法，而硅基晶片同环节中有液态，可以做「熔融拉晶」，效率是碳化硅的数百倍。
目前来说，翟达也没有什幺太好的办法，虽然理论上碳化硅在10Gpa，也就是一万倍大气压下可以液化，但那又会涉及到如何精准控制确保均匀的问题。
产业技术永远不是单纯的物理参数，那样的特殊设备造出来，也没有量产的能力与意义。
当下产业界的规划方向里，也有一些新点子，比如YMUS超声喷涂技术、液相法（LPE），或者干脆找一些催化剂进行化学沉积（CVD）.：：
但产业技术不是单纯物理参数的同时，也不会是单纯的研究室行为。
花费许多时间去硬钻牛角尖，反而可能导致市场变化、失去领先地位。
现阶段，英飞凌和研究院不清不楚的关系，让翟达很有危机意识。
他丝毫不怀疑，只要白宫开始吟唱了，英飞凌立刻就会半推半就，弃明投暗。
咱做事啊，要分得清主要矛盾和次要矛盾，比如，要先解决对手「死不死」的问题。
