单凭其在色差补偿方面的颠覆性能力，也足以成为解决超高NA物镜组设计痛点的关键。
他心中迅速盘算起来：
如果能把现有DUV光刻机的NA值从1.35大幅提升到1.70以上，相当于把等效解析度波长从142.2nm压缩到112.9nm。
这将极大扩展现有DUV设备的实用能力边界，可能直接解决40nm乃至28nm的图形化问题，显着减轻对多重曝光技术的依赖，从而绕开良率和成本的泥潭！
片刻的思索后，常浩南心中已有了初步的盘算。
他依旧没有直接点破负折射率材料的存在，但决定再向前推进一步。
「实不相瞒，火炬实验室目前正在探索一种新型的光学系统设计理念，其中涉及一些……非传统的路径。」他措辞谨慎，「为了更好地评估这种新理念的潜力，我们迫切需要一些关键的设计输入参数。」
吴明翰心说终于来了。
对方提出的要求极其具体且专业，目标明确指向了物镜系统。
结合之前提到的「新型设计理念」和对镥铝石榴石特性的关注，一个模糊但激动人心的轮廓在吴明翰脑海中逐渐浮现——
常院士手中，很可能掌握着一种能够解决高NA值问题的颠覆性技术！
想到这里，他用肉眼难辨的速度掏出了早就准备好的纸笔：
「您说」
常浩南看着眼前这副早有准备样子也是一愣，然后开始列出需求：
「首先，我们需要明确目标NA值下对应的、实际光刻工艺所要求的光学设计规格。包括但不限于：有效成像视场的大小、允许的最大波像差、畸变容限、还有系统的工作距离等硬性指标。」
「其次是透镜组的整体结构布局……」
「……」
洋洋洒洒，十几分钟才终于说完。
