京城西郊。
计算机发展工业区，第一晶片厂。
无尘车间內摆放著一个庞然大物，长有近五米，宽三米，高四米，重达十五吨。
这就是杨学斌举国之力製造出来的duv光刻机，可以生產150纳米的晶片，这种技术水平相当於现实世界的二十世纪末的水平。
不过这並不是它的潜力。
通过arf浸没式，经过多重曝光后，甚至可以製造出七纳米的晶片。
“启动！”
隨著杨学斌一声令下，duv光刻机启动，並开始试生產。
为了这台光刻机，杨学斌付诸了无数心血，光是调试他就了三个月的时间。
今天终於到了开结果的时候了。
经过处理的八英寸硅片被送入光刻机內进行光刻，隨后便是显影、刻蚀和去胶等步骤，然后不断重复这一过程80次，最终在硅片上构建3d电晶体结构。
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晶片生產是个漫长的过程，从投料到切割封装，以及经过最终测试，大概需要十周，也就是两个月的时间。
杨学斌自然不可能守在这里，他还要加紧督促软体组完成作业系统的编写，像其他软体基本上都已经完成了。
1969年5月25日。
150纳米的晶片经过了最终测试，只不过良品率有些低，还不到百分之五十。
不过相对於初生產，这已经很不错了。
隨著技术的不断升级，接下来的良品率自然会慢慢提升。
duv光刻机投產成功，杨学斌並没有第一时间上报，而是加紧其他设备的最终研发，像显卡、音效卡、路由器等都需要用到晶片。
