“呵呵……”
方鸿看到这条新闻不禁笑了，自顾自地说道：“看来，多少还是有点急眼了啊，急眼就对了。”
国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的，可是今年上半年以来，大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”，他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。
可他们并没有意识到，这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系，但实际上都是方鸿派过去的人，而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。
现在大基金的钱都在落地到实处，比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱，而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿，几乎提供了不完的钱。
拿了那么多的钱，基本都砸到研发项目里。
目前新微半导体同时在搞三代光刻机，因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进，是可以平行研发的，所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。
这三个团队分别攻关第四代arf光刻机，第五代arfi光刻机，以及第六代极紫外光euv光刻机。
第四代的arf光刻机与第三代krf原理一样，但光源升级，采用193nm光源的光刻机，这两种称之为duv光刻机。
而第五代arfi光刻机，采用的也是193nm光源，但这种又与arf不一样，之前所有的光刻机其介质采用的是空气，但到了arfi光刻机时，采用的是水。
光线在经过水时，会有折射，所以虽然arfi光刻机采用193nm波长光源，经水折射时，等效于134nm波长的光源，所以这种光刻机，叫做浸润式光刻机。
