南方光学负责物镜系统。
南江高科负责光源系统。
龙江科技负责搞工作台以及定位系统。
然后仙女山控股的旗下的其他多家子公司也负责euv光刻机项目的其他子系统。
但是仙女山控股旗下的这些子公司的背后，还有国内数千家各类企业以及科研所……没有更上游的企业以及科研所，其实光靠仙女山控股也搞不出来euv光刻机。
毕竟说白了，其实仙女山控股旗下的这些光刻机子系统供应商，也只是负责子系统研发以及生产，依旧需要大量的供应商来提供更多的零部件以及原材料乃至生产设备。
仙女山控股能够搞出来euv光刻机研发生产，如果一层层往下拆解的话，就会发现几乎波及了整个华夏的工业体系！
这是属于举国之力的产品。
而当下人类世界里，除了华夏外，不可能有第二个国家能够独自制造出来euv光刻机这种大国重器的顶级设备……因为没有第二个国家存在如此完善并且先进的工业体系。
美国都不行！
就算是华夏能够搞出来，除了徐申学以及相关投资机构持续多年的重金投入，教育体系持续多年培养的高素质，庞大数量的顶级理工科人才外……也极大的依赖了徐申学的科研系统。
没有这个科研系统，也不可能在这么短的时间里搞出来！
毕竟西方体系是通过了几十年的深厚技术积累，尤其是在材料以及精密加工领域的深厚技术积累。
而国内在缺乏这种先进工业底蕴的情况下，想要短时间内追上来并不容易。
必须需要大量的顶级人才……而徐申学的科研系统恰好就能够批量的增强这些顶级人才的能力。
有句话怎么说的来着……普通人的数十年积累，也不如天才的灵光一闪！
而在这套heuv-300c的基础上，海湾科技那边正在积极推进改进型号，也就是heuv-300d型光刻机……这将会是这一系列光刻机的终极改进型号，其最大的性能特征就是把套刻精度提升到一纳米，用以满足euv光刻机双重曝光，也就是等效三纳米以下工艺的大规模生产要求。
简单来说，其效果就是能够大幅度提升euv双重曝光的良率，降低等效三纳米乃至未来等效二纳米等先进芯片的成本。
现在的heuv-300c光刻机，虽然在技术指标上能够生产等效三纳米工艺的芯片，但是良率不高，成本昂贵。
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只不过目前的heuv-300d光刻机，还处于原型机制造阶段，要生产并供货，最早也要到明年去了，而要等到heuv-300d光刻机安装调试完成，并进行大规模量产，那最早也得后年去了。
时间太久了，智云集团等不了那么长的时间。
因此智云微电子前期的等效三纳米工艺的生产，只能依靠heuv-300c光刻机了。
而压榨现有光刻机的物理极限，制造更先进的芯片，这也是智云微电子非常擅长的领域。
在duv浸润式光刻机时代里，智云微电子就曾经使用hduv-600系列光刻机，通过四重曝光技术生产等效七纳米工艺……甚至当时一度还尝试过用这个光刻机玩八重曝光，搞等效五纳米工艺呢，这是个无比疯狂的技术。
不过没多久euv光刻机就已经量产并投入使用，因此这个疯狂计划被放弃了。
但是这也导致了，智云微电子在多重曝光领域里的技术积累非常深厚。
现在，智云微电子也在euv光刻机上继续玩多重曝光技术，并且准备用性能稍微不足的heuv-300c光刻机来强行达到大规模量产等效三纳米工艺。
在第三十二厂里，徐申学也在实验室里看到heuv-300c光刻机通过双重曝光，生产等效三纳米工艺芯片的过程，并且最终还看到了实验芯片成品。
丁成军道：“实际上，目前我们已经能够使用heuv-300c光刻机以及搭配的其他顶级设备制造出来等效三纳米工艺的芯片，但是目前的技术水平下，良率太低了。”
“目前我们的等效三纳米工艺的良率只有百分之四十，使用这个良率生产芯片的话，其芯片成本比较高，从商业角度来说得不偿失。”
“我们的目标是在未来半年内，把良率提升到百分之六十的水平，并且争取在明年四月份之前，把良率提升到百分之七十五的水平，这样就能够在明年代工生产s1303芯片以及apo7000的gpu核心的时候，把制造成本控制在一个可以接受的水平！”
“如果是未来性能更强悍的heuv-300d也投入使用的话，那么等效三纳米工艺的良率就能够提升到百分之八十五以上，多积累几年技术，未来把良率提升到百分之九十也是有可能的！”
