陈老见老周这态度，也是心中一阵无语，我江城六中没面子？还要报李东的号？
不过好像是真的没李东有面子，至少现在是。
「那就麻烦周主任了。」
……
此时此刻，考场内。
只剩下最后四十分钟了。
李东坐在座位上，看着试卷的最后一页，眼神很复杂。
他一直觉得自己为了改变命运，在群里披着马甲薅那些科学巨匠的羊毛，已经算是挺不要脸的行为了。
但是，今天看了华轩科技出的这道压轴题，李东才知道，什么叫「资本的厚颜无耻」！
【某半导体设备企业正在研发 28nm工艺节点量产型浸没式光刻系统，核心要采用 193nm ArF准分子雷射光源，局部浸没式成像架构，在投影物镜最后一片镜片与晶圆表面之间，填充折射率 n=1.44的超纯水作为成像介质，以提升系统解析度和成像精度。
系统工作时，晶圆台以匀速直线扫描完成整片晶圆曝光，曝光雷射的能量会在浸没液中产生局部瞬态温升，进而引发成像误差。】
某半导体企业？到底是哪个半导体企业呢？好难猜呀。
看完这个背景，再看问题。
李东的眼角都开始抽搐了。
【请你设计一套配套的成像误差实时补偿方案，需同时满足以下所有硬性指标：
补偿精度：可将浸没介质折射率波动带来的曝光线宽误差，控制在±1.2nm以内；
响应速度：补偿延迟≤1m，可适配晶圆台≥1200mm/的匀速扫描速度；
抗干扰能力：补偿效果不受浸没液瞬态温度波动、流速扰动、溶解气体含量变化的影响；
结构约束：方案不得改动现有曝光光学系统的核心结构与参数，不得改变浸没介质的成分与基础物性，无任何与晶圆表面直接接触的部件。
量产要求：方案核心部件可标准化批量生产，单套系统物料成本≤100万元人民币。】
「呵呵。」
